1400℃真空管式氣氛爐以矽碳棒為加熱元件✘•·╃•，採用雙層殼體結構✘•·╃•，爐殼間配有風冷系統✘•·╃•，能快速升降溫✘•·╃•，採用高純剛玉管·☁、兩端用不鏽鋼法蘭密封✘•·╃•，可選用浮子流量計控制進氣流量·☁、該爐具有溫場均衡·☁、表面溫度低·☁、升降溫度速率快·☁、節能等優點☁₪╃·。
更新時間☁•◕│₪：2022-05-24 型號☁•◕│₪：1400℃ 廠商性質☁•◕│₪：生產廠家 瀏覽量☁•◕│₪：4246
等離子增強化學氣相沉積爐（PECVD系統）是藉助於放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應✘•·╃•，從而實現薄膜材料生長的一種新的製備技術☁₪╃·。由於PECVD技術是透過應氣體放電來製備薄膜的✘•·╃•，有效地利用了非平衡等離子體的反應特徵✘•·╃•，從根本上改變了反應體系的能量供給方式☁₪╃·。
更新時間☁•◕│₪：2021-11-18 型號☁•◕│₪： 廠商性質☁•◕│₪：生產廠家 瀏覽量☁•◕│₪：3755
1200℃真空管式氣氛爐採用先進技術研製開發的高效能高節能的新型電爐✘•·╃•，有單管·☁、雙管·☁、臥式·☁、可開啟式·☁、立式·☁、單溫區·☁、雙溫區·☁、三溫區等多種管式爐型☁₪╃·。主要應用於大專院校·☁、科研院所·☁、工礦企業等實驗和小批次生產之用☁₪╃·。具有安全可靠·☁、操作簡單·☁、控溫精度高·☁、保溫效果好·☁、溫度範圍大·☁、爐膛溫度均勻性高·☁、溫區多·☁、可選配氣氛·☁、抽真空爐型等☁₪╃·。
更新時間☁•◕│₪：2021-11-18 型號☁•◕│₪：HTF1200 廠商性質☁•◕│₪：生產廠家 瀏覽量☁•◕│₪：4121
化學氣相沉積爐（CVD系統）是藉助於輝光放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應✘•·╃•，從而實現薄膜材料生長的一種新的製備技術☁₪╃·。由於PECVD技術是透過應氣體放電來製備薄膜的✘•·╃•，有效地利用了非平衡等離子體的反應特徵✘•·╃•，從根本上改變了反應體系的能量供給方式☁₪╃·。
更新時間☁•◕│₪：2021-11-18 型號☁•◕│₪： 廠商性質☁•◕│₪：生產廠家 瀏覽量☁•◕│₪：3941
1700℃真空管式氣氛爐採用先進技術研製開發的高效能高節能的新型電爐✘•·╃•，有單管·☁、雙管·☁、臥式·☁、可開啟式·☁、立式·☁、單溫區·☁、雙溫區·☁、三溫區等多種管式爐型☁₪╃·。裝置具有安全可靠·☁、操作簡單·☁、控溫精度高·☁、保溫效果好·☁、溫度範圍大·☁、爐膛溫度均勻性高·☁、溫區多·☁、可選配氣氛·☁、抽真空爐型等☁₪╃·。
更新時間☁•◕│₪：2021-11-18 型號☁•◕│₪：HTF1700 廠商性質☁•◕│₪：生產廠家 瀏覽量☁•◕│₪：3072
1700℃管式氣氛爐以矽碳棒為發熱元件；雙層風冷結構；高純氧化鋁纖維真空吸附一次成型；高密度矽碳棒真空擠壓成型；剛玉管外徑為60·☁、80mm☁₪╃·。兩個溫區分別由兩個獨立的溫控系統來控制且都為PID30段程式化控溫☁₪╃·。
更新時間☁•◕│₪：2021-11-18 型號☁•◕│₪：HTL 廠商性質☁•◕│₪：生產廠家 瀏覽量☁•◕│₪：3222
