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等離子增強化學氣相沉積爐（PECVD系統）

簡要描述•▩│：

等離子增強化學氣相沉積爐（PECVD系統）是藉助於放電等離子體使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應│•••，從而實現薄膜材料生長的一種新的製備技術││✘◕☁。由於PECVD技術是透過應氣體放電來製備薄膜的│•••，有效地利用了非平衡等離子體的反應特徵│•••，從根本上改變了反應體系的能量供給方式││✘◕☁。

型號•▩│：

城市•▩│：上海市

訪問量•▩│：4915

更新時間•▩│：2021-11-18

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等離子增強化學氣相沉積爐（PECVD系統）
品牌HAOYUE/皓越升溫速度（達到最高溫）10℃min
控溫精度±1℃最高溫度1200℃
價格區間5萬-10萬儀器種類管式爐
產地類別國產應用領域化工,能源,電子,冶金,製藥
　　一•◕✘╃、等離子增強化學氣相沉積爐（PECVD系統）的應用•▩│：
　　PECVD工藝中由於等離子體中高速執行的電子撞擊到中性的反應氣體分子│•••，就會使中性反應氣體分子變成碎片或處於啟用的狀態容易發生反應；藉助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體│•••，在區域性形成離子體│•••，而等離子體化學活性很強│•••，很容易反應│•••，在基片上沉積出所期望的薄膜；具有基本溫度低•◕✘╃、沉積速率快•◕✘╃、成膜質量好•◕✘╃、針孔較少•◕✘╃、不易龜裂等優點；
 
　　二•◕✘╃、產品特點•▩│：
　　1•◕✘╃、整機採用SUS304不鏽鋼材質│•••，流線型外觀│•••，真空吸附成型的優質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛│•••，保溫效能好││✘◕☁。
　　2•◕✘╃、爐子底部裝有一對滑軌│•••，移動平穩│•••，可以手動從一端滑向另一端│•••，實現快速的加熱和冷卻││✘◕☁。爐蓋可開啟│•••，可以實時觀察加熱的物料││✘◕☁。
 　　3•◕✘╃、採用高純石英管│•••，高溫下化學穩定性強│•••，耐腐蝕│•••，熱膨脹係數極小││✘◕☁。
　　4•◕✘╃、採用SUS304不鏽鋼快速法蘭│•••，透過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空│•••，一個卡箍就能完成法蘭的連線│•••，放•◕✘╃、取物料方便快捷││✘◕☁。
　　5•◕✘╃、加熱元件採用康奈爾發熱絲│•••，表面負荷高•◕✘╃、經久耐用││✘◕☁。設計溫度1200℃│•••，升溫速率10℃/min││✘◕☁。
　　6•◕✘╃、可選配多路質量流量計│•••，數字顯示•◕✘╃、氣體流量自動控制；內建不鏽鋼混氣箱│•••，每路氣體管路均配有逆止閥│•••，可透過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量││✘◕☁。
　　7•◕✘╃、等離子射頻電源•▩│：大射頻功率達500W│•••，輸出頻率13.56MHz±0.005%│•••，輸入電源 208-240VAC│•••，單相50/60Hz││✘◕☁。
 
　　三•◕✘╃、技術引數•▩│：

 

型號

HTF1200-2.5/20-2M-LV-PE 

HTF1200-5/20-4M-LV-PE 

HTF1200-6/40-2M-HV-PE 

HTF1200-8/40-4M-HV-PE 

設計溫度（℃）

1200 

1200 

1200 

1200 

控溫精度（℃）

±1 

±1

±1 

±1 

加熱區直徑（mm）

25 

 50

60 

80 

加熱區長度（mm）

200 

 200 

400 

400 

加熱管長度（mm）

450 

450 

1000 

1000 

恆溫區長度（mm）

80 

80 

150 

150 

額定電壓（V)

220 

220 

220 

220

額定功率(KVA)

1.2 

1.2 

3 

3 

射頻電源功率（W)

5~300 

5~300 

5~500 

5~500 

真空機組

HTF-101 

HTF-101 

HTF-104 

HTF-104 

供氣系統

HTF-2F 

HTF-4F

HTF-2M 

HTF-4M 

 

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