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氣相沉積爐在技術上有什麼特點₪↟?安裝要注意什麼₪↟?
點選次數₪·☁:28 釋出時間₪·☁:2022-07-20
  氣相沉積爐是時代發展進步的產物▩▩₪│,它是透過化學反應的方式▩▩₪│,利用加熱✘·│▩、等離子激勵或光輻射等各種能源▩▩₪│,在反應器內使氣態或蒸汽狀態的化學物質在氣相或氣固介面上經化學反應形成固態沉積物的技術◕✘☁₪。簡單來說就是₪·☁:兩種或兩種以上的氣態原材料匯入到一個反應室內▩▩₪│,然後他們相互之間發生化學反應▩▩₪│,形成一種新的材料▩▩₪│,沉積到基片表面上◕✘☁₪。CVD和PVD相比▩▩₪│,沉積過程要發生化學反應▩▩₪│,是一個氣象化學生長的過程◕✘☁₪。

  目前▩▩₪│,本裝置是由沉積室✘·│▩、供氣系統和排氣系統組成▩▩₪│,是以電阻加熱或者感應加熱的方式▩▩₪│,在真空環境下▩▩₪│,通入沉積氣體▩▩₪│,並在高溫下產生裂解後沉積到工件上▩▩₪│,使複合材料得到緻密化處理的生產裝置◕✘☁₪。

 

  技術特點₪·☁:
  1.氣相沉積爐可以控制塗層的密度和塗層純度◕✘☁₪。
  2.氣相沉積爐可以透過各種反應形成多種金屬✘·│▩、合金✘·│▩、陶瓷和化合物塗層◕✘☁₪。
  3.在中溫或高溫下▩▩₪│,透過氣態的初始化合物之間的氣相化學反應而形成固體物質沉積在基體上◕✘☁₪。
  4.採用等離子和鐳射輔助技術可以顯著地促進化學反應▩▩₪│,使沉積可在較低的溫度下進行◕✘☁₪。
  5.塗層的化學成分可以隨氣相組成的改變而變化▩▩₪│,從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層◕✘☁₪。
  6.沉積層通常具有柱狀晶體結構▩▩₪│,不耐彎曲▩▩₪│,但可透過各種技術對化學反應進行氣相擾動▩▩₪│,以改善其結構◕✘☁₪。
  7.繞鍍件好◕✘☁₪。可在複雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜◕✘☁₪。適合塗覆各種複雜形狀的工件◕✘☁₪。由於它的繞鍍效能好▩▩₪│,所以可塗覆帶有槽✘·│▩、溝✘·│▩、孔▩▩₪│,甚至是盲孔的工件◕✘☁₪。

  氣相沉積爐的安裝說明₪·☁:
  1.安裝時₪·☁:沒什麼特殊要求▩▩₪│,在室內地面或臺架上▩▩₪│,電爐控制器應放在工作臺上▩▩₪│,檯面傾斜度不得超過5度▩▩₪│,控制器離實驗室電爐小距離不得少於0.5米▩▩₪│,為了保證控制器的正常運轉▩▩₪│,控制器不宜放在電爐上面◕✘☁₪。
  2.接線時▩▩₪│,首先轉松控制器外殼左右兩側的螺釘▩▩₪│,然後將罩殼上翻▩▩₪│,接好電源線後▩▩₪│,控制器與電爐的連線及熱電偶連線線▩▩₪│,將熱電偶從熱電偶固定座的小孔中插入爐膛▩▩₪│,孔與熱電之間間隙用石棉繩堵塞▩▩₪│,然後固定◕✘☁₪。
  3.檢查完接線後,即可通電▩▩₪│,然後打開回轉爐控制器面板上的開關▩▩₪│,調節設定按鈕▩▩₪│,把溫度設定到您所需要的度數上▩▩₪│,如果把設定開關拔向測量位置上▩▩₪│,紅燈滅▩▩₪│,亦有接觸器的吸合聲響▩▩₪│,電爐通電▩▩₪│,電流表指示加熱電流值▩▩₪│,溫度隨爐內溫度升高而徐徐上升▩▩₪│,說明工作正常◕✘☁₪。
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